Processtekniken heter UX7LS och är en krympt version av NEC:s 65 nm-teknik. Den ska användas både i DRAM och i strömsnåla systemkretsar (SoC).

Enligt NEC ska UX7LS kunna ge samma prestanda som 45-nm-teknik, till mindre strömförbrukning.

Standbyströmmen ska vara en tiondel av den man får i 65-nm-teknik. Förklaringen ligger i den hafniumsilikatfilm som transistorerna använder som isolator och vad den tillåter dig att göra för att bestämma optimala matnings- och tröskelspänningar.

Designreglerna är desamma som i den tidigare 65-nm-processen. Krympningen från 65 till 55 nm sker genom immersionslitografi.