JavaScript is currently disabled.Please enable it for a better experience of Jumi.
 Annonsera Utgivningsplan Månadsmagasinet Prenumerera Konsultguide Om oss  About / Advertise
lördag 21 september 2019 VECKA 38
Halvledarjättarna AMD och IBM har tagit fram det första fungerande kiselchipset med extrem-UV-litografi, alltså ultraviolett "ljus" med så kort våglängd som 13,5 nm. Kretsen mäter 22 x 33 mm och är gjord i 45 nm-teknik.
Om geometrierna i halvledare ska kunna fortsätta krympas i samma takt som tidigare måste den ljusstrålning som används vid litografin också komma ner i våglängd. Men att använda den extremt korta våglängden 13,5 nm, i industrin kallad EUV, har visat sig vara mycket svårt.

Nu säger sig dock AMD ha lyckats, med stöd av forskare från samarbetspartnern IBM. I fabriken i Dresden har företagen för första gången använt EUV över ytan på en hel krets, 22 x 33 mm stor, rapporterar nätupplagan av EE Times.

Testkretsarna gick först genom AMDs normala 45 nm-produktion i Dresden, och skickades därefter till IBMs forskningsanläggning i Albany. Där finns en tidig version av ett EUV-verktyg från holländska ASML. Detta användes för att lägga på det första metallagret i kretsen, som förbinder transistorerna.

Kretsarna skickades därefter tillbaka till AMD som testade dem, och konstaterade att deras elektriska egenskaper var snudd på identiska med de som producerats på gängse vis, med vanlig 193 nm immersionslitografi.

Nu ska kretsarna förses med fler metallager, på konventionellt vis, för att verifiera att det går att bygga stora minnen ovanpå EUV-lagret. Därefter ska företagen prova att använda EUV-teknik för alla metallager i kretsen, inte bara det första.

År 2016 ska halvledarutvecklingen ha nått så långt att geometrierna kommit ner till 22 nm, enligt branschens gemensamma framtidsplan. Till det krävs EUV-teknik, så före dess måste den ha blivit fullt kvalificerad för produktion om målet ska hållas.

Det finns gott om tvivlare som hävdar att EUV-tekniken är så svårhanterlig att den aldrig kommer att kunna användas i verklig produktion. Tvivlarnas främsta argument är att EUV-fotoner har nära 15 gånger så hög energi än fotoner vid 193 nm (92 eV jämfört med 6,4 eV), vilket gör att EUV-strålningen absorberas av all materia och produktionen således måste ske i vakuum.

MER LÄSNING:
 
Branschens egen tidning
För dig i branschen kostar det inget att prenumerera på vårt snygga pappers­magasin.

Klicka här!
SENASTE KOMMENTARER
Kommentarer via Disqus

Vi gör Elektroniktidningen

Anne-Charlotte Sparrvik

Anne-Charlotte
Sparrvik

+46(0)734-171099 ac@etn.se
(sälj och marknads­föring)
Per Henricsson

Per
Henricsson
+46(0)734-171303 per@etn.se
(redaktion)

Anna Wennberg

Anna
Wennberg
+46(0)734-171311 anna@etn.se
(redaktion)

Jan Tångring

Jan
Tångring
+46(0)734-171309 jan@etn.se
(redaktion)