Det kinesiska foundryt SMIC har börjat testa en kinesiskutvecklad litografimaskin som potentiellt kan klara 5 nm-processer. Det handlar om en så kallad DUV-maskin från Shanghaibaserade uppstartsföretaget Yuliangsheng, skriver Financial Times.
Hittills har det inte funnits några inhemska tillverkare av litografimaskiner som kunnat konkurrera med nederländska ASML på mer avancerade processnoder. Och DUV på 193 nm med så kallad immersionsteknik (ett lager ultrarent vatten mellan wafern och sista linsen) är inte heller en konkurrent till företagets spjutspetsmaskin med EUV-litografi på 13,5 nm.
Stämmer uppgifterna i Financial Times har Kina ändå tagit ett stort steg mot att minska beroendet av ASML.
Enligt artikeln testas Yuliangshengs maskin av SMIC i en 7 nm-process. SMIC tänker använda den även för 5 nm trots att yielden förväntas bli väldigt låg.
TSMC, Samsung och Intel använder alla EUV-litografi för de kritiska lagren i processer som motsvarar 7 nm och finare, men den amerikanska administrationen har förbjudit export av tekniken till Kina.