Alixlabs har tagit in 14,1 miljoner euro i en A-runda. Pengarna ska användas för betatestning av företagets halvledarmaskin för så kallad Atomic Layer Etching Pitch Splitting liksom utveckling av en kommersiell maskin till år 2027.
Det absolut dyraste steget i de mest avancerade halvledarprocesserna är litografin. Det lundabaserade uppstartsbolaget Alixlabs vill sänka kraven på litografin ett antal lager i halvledarstacken med plasmabaserad torretsning. I början av året visade företaget med skivor från Intel att det fungerar i vad som motsvarar en 3 nm-process.
Alixlabs utgick från en långsmal struktur på 50 nm och etsade sedan ett dike mitt i den, vilket resulterade i två parallella strukturer om 6,5 nm vardera och med ett avstånd på 25 nm. Bredden kallas CD (critical dimension) och avståndet för pitch.
Pitchen motsvarar vad som krävs av det understa metallagret – Metal Pitch – för en 3 nm-process hos TSMC och Samsung, medan intel kallar motsvarande porcessnod för Intel 4.
Testwafern var på 300 mm och processades i den plasmaetsare som Alixlabs köpt från Nanovac i Staffanstorp.
Håller tekniken blir det möjligt att ersätta dagens EUV-litografi i en del av lagren med billigare DUV-maskiner utan att behöva använda dubbla masker, så kallad double patterning.
I den senaste investeringsrundan på 155,2 miljoner kronor deltar befintliga ägare Navigare Ventures, Industrifonden och Forward.one. Från Sverige ansluter även Stoaf och från japan Global Brain.
Global Brain är ett oberoende riskkapitalbolag med ett särskilt fokus på uppstartsbolag inom halvledarområdet.
Kapitaltillskottet ska användas för att skala upp forskning och utveckling samt öka produktionskapaciteten vid bolagets anläggningar i Lund och Nederländerna. Det möjliggör också ett fördjupat samarbete med foundry-partners och markerar starten på den industriella implementeringen av tillverkningsmetoden som döpts till APS (Atomic Layer Etch Pitch Splitting).