Den är många gånger större än ASML:s EUV-maskin och kan börja användas för tillverkning av avancerade logikkretsar år 2028. Om ryktet som nyhetsbyrån Reuters fångat upp stämmer, har Kina tagit ett enormt steg mot att bli självförsörjande även på avancerad litografi.
Det finns inga officiella uttalanden eller dokument som verifierar Reuters artikel men nyhetsbyrån har pratat med två oberoende personer. Enligt artikeln finns maskinen i Shenzhen och har testats sedan början av året men ännu inte använts för att producera några kretsar.
Nyhetsbyrån har heller inte några uppgifter på vilken processnod projektet siktar på år 2028 när uppdragsgivaren vill att den ska börja användas kommersiellt.
En annan källa hävdar att det tar till 2030 innan maskinen är färdigutvecklad.
Den ska dock uppta "ett helt renrum" medan ASML:s maskin inte är större än en buss och kostar runt 2,5 miljarder kronor.
I väst har EUV används från 5 nm och nedåt för att göra litografin i de understa lagren i halvledarstacken, de lager som har de minsta dimensionerna. Ljuskällan är på 13,5 nm.
I äldre processer är det istället immersionslitografi med en våglängd på 193 nm eller längre som används. Det är också den litografin som kinesiska bolag fått hålla till godo med sedan USA blockerat ASML från att exportera EUV-maskiner till Kina.
Huawei sägs spela en nyckelroll i projektet som uppges ha använt delar från begagnade ASML-maskiner för enklare DUV-ljus.
Enligt artikeln har den kinesiska staten bland annat engagerat tidigare ASML-anställda i projektet som ska ha plockat isär och kopierat teknik från det nederländska bolaget.
Själva ljuskällan som producerar EUV-ljuset på 13,5 nm ska vara klar. Huruvida optiken också är färdigutvecklad framgår inte men den är minst lika avancerad.