Forskare vid Princeton University har utvecklat en litografisk teknik för framställning av tredimensionella strukturer som är mindre än 40 nm.
Metoden går i korthet ut på att en form skapas på en kiselskiva med hjälp av elektronstrålelitografi och etsning. Enligt forskarna är tekniken betydligt lättare att använda än traditionell litografi.
Skapandet av formen är visserligen en tidsödande och komplicerad process, men när formen väl är klar kan den utnyttjas för relativt enkel och snabb tillverkning av tredimensionella nanostrukturer. Forskarna, under ledning av professor Stephen Chou, har beskrivit tekniken i tidskriften Applied Physics Letters.
Skapandet av formen är visserligen en tidsödande och komplicerad process, men när formen väl är klar kan den utnyttjas för relativt enkel och snabb tillverkning av tredimensionella nanostrukturer. Forskarna, under ledning av professor Stephen Chou, har beskrivit tekniken i tidskriften Applied Physics Letters.