Arbetet är utfört i samarbete mellan dotterbolaget Smoltek Semi och taiwanesiska Skytech med hjälp av den senares ALD-utrustning (Atomic Layer Deposition). 

– Vårt nästa fokus är att överföra detta genombrott från laboratorieprototyper till produktprototyper, med fokus på att förbättra processutbytet och isolationsmotståndet, säger Dr. Ghavanini, CTO på Smoltek.

Utvecklingsarbetet inleddes i början av året och fokuserade på optimering och utvärdering av ALD-filmer som Skytech deponerat på Smolteks egenutvecklade CNF-MIM testkondensatorstrukturer. 

Den dielektriska stacken består av zirkoniumoxid (ZrO₂) och aluminiumoxid (Al₂O₃). 

Den aktiva skikttjocklek är 6 µm – vilket motsvarar en volymetrisk kapacitansdensitet som överstiger 160 nF/mm²-µm, vilket enligt Smoltek är bland de högsta rapporterade volymetriska kapacitansdensiteterna för ultratunna kondensatorer i branschen.

Smoltek har beslutat att genomföra en nyemission av aktier om lägst cirka 26 miljoner kronor och högst cirka 32 miljoner med företrädesrätt för befintliga aktieägare. Teckningsperioden löper under perioden från och med 9 juni 2025 till och med 24 juni 2025.

– Pengarna ska användas till att fortsätta föra dialoger och förhandlingar med industriella aktörer, i syfte att ingå partnerskap för industrialisering och kommersialisering av teknologin för kondensatorer i Smoltek Semi samt för elektroder i Smoltek Hydrogen, berättar Fredrik Liljeberg, marknadskommunikatör.

Smoltek Hydrogen har enligt Fredrik Liljeberg gjort betydande framsteg i utvecklingen av bolagets PTE-teknik, en porös transportelektrod som ska möjliggöra ökad katalytisk aktivitet  tillsammans med kraftigt minskad användning av ädelmetaller, såsom iridium och platina, i elektrolysörceller.

– Sedan behöver vi även fortsatt upprätthålla tempot i teknikutvecklingen i respektive dotterbolag. Sedan behövs en del av pengarna till rörelsekapital för Smolteks löpande kostnader utöver direkt teknikutveckling.