About / Advertise
En av teknikkandidaterna för nästa generations litografisystem, elektronprojiceringstekniken Scalpel utvecklad vid Bell Labs, har tappat stödet från utrustningstillverkarna.
Det är ASM Lithography och Applied Materials som har beslutat att upplösa det gemensamma bolag som skulle kommersialisera Scalpel-tekniken. När de båda utrustningsföretagen för bara 14 månader sedan bildade e-Lith LLC ansågs tekniken, som bygger på elektronprojicering, som en av huvudkandidaterna för framtidens litografiska system.
Branschorganisationen International Sematech väntas som en följd av detta rekommendera att utvecklingsresurserna koncentreras på den alternativa extrem-UV-tekniken, som förfäktas av ett brett industrikonsortium lett av Intel. Dessutom börjar en del Sematechmedlemmar intressera sig för en teknik som bygger på direktskrivande elektronstrålar, som hittills uppmärksammats mest i Japan. I Europa finns dock också förhoppningar om att en teknik baserad på jonprojicering, som utvecklas i ett Medeaprojekt, nu ska få utökade resurser.
Holländska ASMLs beslut att överge eLith och Scalpel kom efter att företagets kunder sagt sig föredra extrem-UV-tekniken. ASML är även involverat i utvecklingen av den tekniken, liksom av jonprojiceringstekniken. Efter ASMLs avhopp från eLith valde Applied Materials att göra detsamma, trots att företaget hade hoppats att via Scalpel ta sig in på litografimarknaden, som är den enda utrustningssektorn som företaget ännu inte är en stor aktör inom.
Scalpel-tekniken utvecklades vid dåvarande Lucent Technologies, nuvarande Agere Systems Bell Labs och stöddes av, förutom Lucent självt och de två utrustningstillverkarna, tre stora halvledarföretag Motorola, Samsung och Texas Instruments. Agere Systems har i en kommentar till den senaste tidens händelser sagt att man fortfarande anser att Scalpel har viktiga fördelar jämfört med extrem-UV, bland annat är elektronprojiceringsmasker betydligt billigre att framställa. Företaget försöker därför uppamma intresse hos andra utrustningstillverkare.
Flera branschanalytiker har dock mer eller mindre dödförklarat inte bara Scalpel utan hela elektronprojiceringstekniken. De anser att även IBM, som tillsammans med Nikon väntas presentera en prototyp av sitt elektronprojiceringssystem Prevail redan i vår, kommer att få svårt att göra tekniken kommersiellt gångbar. Teknikens främsta problem är att system baserade på den blir relativt långsamma.
Branschorganisationen International Sematech väntas som en följd av detta rekommendera att utvecklingsresurserna koncentreras på den alternativa extrem-UV-tekniken, som förfäktas av ett brett industrikonsortium lett av Intel. Dessutom börjar en del Sematechmedlemmar intressera sig för en teknik som bygger på direktskrivande elektronstrålar, som hittills uppmärksammats mest i Japan. I Europa finns dock också förhoppningar om att en teknik baserad på jonprojicering, som utvecklas i ett Medeaprojekt, nu ska få utökade resurser.
Holländska ASMLs beslut att överge eLith och Scalpel kom efter att företagets kunder sagt sig föredra extrem-UV-tekniken. ASML är även involverat i utvecklingen av den tekniken, liksom av jonprojiceringstekniken. Efter ASMLs avhopp från eLith valde Applied Materials att göra detsamma, trots att företaget hade hoppats att via Scalpel ta sig in på litografimarknaden, som är den enda utrustningssektorn som företaget ännu inte är en stor aktör inom.
Scalpel-tekniken utvecklades vid dåvarande Lucent Technologies, nuvarande Agere Systems Bell Labs och stöddes av, förutom Lucent självt och de två utrustningstillverkarna, tre stora halvledarföretag Motorola, Samsung och Texas Instruments. Agere Systems har i en kommentar till den senaste tidens händelser sagt att man fortfarande anser att Scalpel har viktiga fördelar jämfört med extrem-UV, bland annat är elektronprojiceringsmasker betydligt billigre att framställa. Företaget försöker därför uppamma intresse hos andra utrustningstillverkare.
Flera branschanalytiker har dock mer eller mindre dödförklarat inte bara Scalpel utan hela elektronprojiceringstekniken. De anser att även IBM, som tillsammans med Nikon väntas presentera en prototyp av sitt elektronprojiceringssystem Prevail redan i vår, kommer att få svårt att göra tekniken kommersiellt gångbar. Teknikens främsta problem är att system baserade på den blir relativt långsamma.
Gittan Cedervall
