Samtidigt meddelade japanska Nikon att de kommer att ha ett litografiskt tillverkningssystem baserat på elektronprojektion redo för lansering redan i slutet av 2004. Systemet har utvecklats i samarbete med IBM, och Nikon hävdar bestämt att det kommer att behövas för tillverkning av kretsgeometrier på 70 nm, eftersom extrem-UV-systemen inte hinner bli klara i tid.
Nikon säger sig ha starkt stöd för elektronprojektionstekniken i Japan. Dessutom lär Texas Instruments och Lucents avknoppade halvledarbolag Agere vara intresserade av att använda tekniken. Lucents elektronprojektionsprojekt Scalpel övergavs ju nyligen av utrustningstillverkarna Applied Materials och ASM Lithography.
Nikons japanska konkurrent Canon var en av de utrustningstillverkare som presenterade sina lanseringsplaner för extrem-UV-system på konferensen. Företaget FoU-budget för extrem-UV uppgår till cirka 250 miljoner dollar och ska resultera i ett första verktyg 2005, följt av ett helt lanseringsbart produktionssystem 2007.
Canon, som faktiskt började utveckla extrem-UV-teknik redan på 1980-talet, har dock inte övergivit utvecklingen av alternativa tekniker. Litografisk teklnik baserad på direktskrivande elektronstrålar utvecklas fortfarande i ett projekt. Däremot har företagets röntgenbaserade system skrinlagts även om Canon säger att många av systemets komponenter även kan utnyttjas för extrem-UV.
Ett av extrem-UV-teknikens problem, som var föremål för diskussion på konferensen, är att utrustning baserad på tekniken kommer att bli oerhört dyr. Enligt vissa bedömare kommer kretstillverkarna att behöva punga ut med närmare en miljard dollar för att utrusta en enda fabrik med extrem-UV-utrustning. Därmed frågar man sig hur många av dagens kretstillverkare som verkligen kommer att ha råd att hänga med i utvecklingen.
Gittan Cedervall