Mikropelaren som etsats i kiselskivan är cirka 120 mikrometer hög och tre mikrometer bred. Foto: KTH |
- När vi forskat på poröst kisel har vi lärt oss en hel del om elektrokemisketsning, säger Jan Linnros, forskningsledare i projektet.
De kunskaperna har han nu tagit tillvara för att med en elektrokemisk metod etsa 120 mikrometer höga, men bara två till tre mikrometer breda, pelarlika strukturer på en kiselskiva. Etsmetoden är ett mellanting mellan elektropolering, som skapar en helt plan yta på kislet, och porös etsning som skapar porer över hela kiselytan. Den elektrokemiska metoden klarar att skapa strukturer med mycket högre skillnad mellan höjd och bredd än vad som är möjligt med en konventionell plasmaetsning.
- Det visar sig att om man har strukturer skapade med konventionell fotolitografi så går det att fortsätta etsa och bevara dem till flera 100 mikrometes djup, säger Jan Linnros.
De första pelarna tillverkades för ungefär ett år sedan och nu när forskningsresultaten presenterats vill forskarna gå vidare och skala ner strukturerna till nanometerstorlek.
- Den elektrokemiska etsningen fungerar ner till några nanometers storlek och mönstret kan skapas med elektronstrålelitografi.
Om man lyckas skapa pelarna i nanometerstorlek tror Jan Linnros att de kan bli intressanta att använda inom mikro- och nanomekanik eller bioteknik, men ännu finns inga specifika tillämpningar.
Jonas Ryberg