About / Advertise
Utrustningstillverkarna Applied Materials och ASM Lithography ska samarbeta med Lucent Technologies kring en vidareutveckling av företagets litografiprocess för kretsstrukturer under 0,1 μm.
Lucent hoppas att samarbetet med de båda utrustningsföretagen ska göra att tekniken snabbare kan förverkligas i kommersiellt gångbara system. Tekniken lovar att göra det möjligt att tillverka kretsstrukturer som mäter mindre än 50 nm. De första prototypinstrumenten väntas vara klara om två eller tre år. Först år 2006 väntas dock de första kommersiella kretsarna med strukturer under 0,1 μm finnas tillgängliga på marknaden.
Samarbetet är viktigt även för de båda utrustningsföretagen. Amerikanska Applied Materials har under en längre tid försökt komma in på litografimarknaden och holländska ASM Lithography har som policy att delta i utvecklingen av samtliga framtida litografitekniker. ASML deltar även i det europeiska Euclides- programmet som siktar till att utveckla extrem UV-teknik. Samarbetet med Lucent kommer troligen att ge utrustningsföretagen fördelaktiga licensavtal för tekniken.
Teknik från Bell Labs
Den så kallade Scalpeltekniken uppfanns redan 1989 vid Bell Labs, som ägs av Lucent. Tekniken är baserad på elektronstrålar, men till skillnad från andra elektronstråleprocesser utnyttjas masker liknande de som används i optiska litografiprocesser. Scalpeltekniken har identifierats som en av de främsta kandidaterna för framtida litografisystem. I USA har exempelvis forskningskonsortiet Sematech beslutat att koncentrera sina resurser på system baserade på extrem UV- och Scalpelteknik.
Gittan Cedervall
