- Det här är världens första helt tryckta kiseltransistor, sa Amir Mashkoori, vd på Kovio, enligt tidningen EE Times.
Transistorerna kan göras av både p- och n-typ, och sålunda bygga upp CMOS-strukturer. De har en elektronmobilitet på 80 cm2/Vs, vilket enligt företaget överskrider prestanda hos all tidigare tryckt elektronik, med organiska eller oorganiska halvledare. Konventionella kiseltransistorer har mobilitet mellan 100 (i LCD-skärmar) och 600 (i CMOS-kretsar) cm2/Vs.
Bakgrunden till Kovios genombrott är framsteg inom material- och nanoforskning, skriver företaget i ett pressmeddelande. Den vätska som motsvarar bläcket innehåller kisel, dopad kisel, metaller och isolatorer. Jämfört med konventionell elektronik hävdar Kovio att resultatet blir både miljövänligare och billigare. En nackdel är dock att processen än så länge kräver så höga temperaturer att plast inte duger som bärare, utan det krävs en metallfolie.
Geometrierna ligger idag kring 20 mikrometer, men företaget hävdar att 10 mikrometer är på gång i labbet. Av en händelse sitter Kovio i samma byggnad i Silicon Valley där Intel en gång grundades år 1971.
- Intels första mikroprocessor innehöll strax under 2000 transistorer. Vår första RFID-krets kommer att ha mindre än 1000 transistorer när vi börjar massproduktionen i slutet av nästa år, säger Mashkoori till EE Times.
Företaget bygger just nu upp en fabrik, något man räknar med ska kosta kring 10 miljoner dollar - att jämföra med omkring en miljard dollar för en normal halvledarfabrik. Produktionen kommer att ske "rulle-till-rulle", och behöver inget renrum. Jämfört med konventionell halvledartillverkning är maskinparken mycket billig.