JavaScript is currently disabled.Please enable it for a better experience of Jumi. Intel överger 157 nm-litografi

Intel överger planerna på att använda litografi med hjälp av ljus med våglängden 157 nm i sin halvledartillverkning. Beskedet skakade om kiselindustrin när företaget i slutet av maj reviderade sina framtidsplaner.
- Vi försöker hela tiden hitta den mest kostnadseffektiva tillverkningstekniken, och nu har vi bestämt oss för att fokusera på 193 nm-litografi, säger Peter Hayward på Intels Münchenkontor.

I Intels reviderade plan ska 193 nm-litografi göra tjänst i tre kiselgenerationer: 90 nm, 65 nm såväl som 45 nm. Därefter får någon annan teknik, eventuellt EUV-litografi (extremt ultraviolett ljus), ta över för tillverkning av 32 nm-kisel. Företaget hoppar med andra ord över optisk 157 nm-litografi, en teknik som Intel har sagt sig investera mycket i.

Gränsen för 193 nm-tekniken har tidigare ansetts gå redan vid 65 nm-strukturer. För att skapa finare geometrier skulle ljus med kortare våglängd krävas för att belysa de fotomasker som används för att överföra ett önskat mönster på kiselsubstratet. Enligt Intels tidigare planer skulle därför 157 nm-litografi börja användas för 65-nm-processer bortemot år 2005 och för 45 nm-processer år 2007.

Peter Hayward vill inte kommentera huruvida tekniska svårigheter ligger bakom beslutet att överge 157 nm-litografin. Det har dock varit känt att tekniken bjuder på tuffa utmaningar. Optiken har pekats ut som den kanske största huvudvärken. De korta våglängderna kräver stora, extremt rena, och därmed extremt dyra, kristaller tillverkade i kalciumflourid, CaF2. Andra stötestenar är resisterna samt den tunna hinna som skyddar maskerna från att kontamineras samtidigt som ljuset släpps igenom.

Det finns olika angreppssätt att ta till för att förlänga 193 nm-verktygens livslängd. Med hjälp av OPC-teknik (Optical Proximity Correction) kan man exempelvis justera maskerna så att det avbildade mönstret blir som önskat. Ett annat knep är att utnyttja linser med högre numerisk apertur.

- Jag kan inte avslöja några detaljer om vilka tillverkningsmetoder vi kommer att använda, säger Peter Hayward.

Enligt uppgifter i amerikanska tidningar kommer Intel emellertid inte att sänka ner linserna i en vätska, vilket också kan förbättra upplösningen.

Charlotta von Schultz

Prenumerera på Elektroniktidningens nyhetsbrev eller på vårt magasin.


MER LÄSNING:
 
KOMMENTARER
Kommentarer via Disqus

Rainer Raitasuo

Rainer
Raitasuo

+46(0)734-171099 rainer@etn.se
(sälj och marknads­föring)
Per Henricsson

Per
Henricsson
+46(0)734-171303 per@etn.se
(redaktion)

Jan Tångring

Jan
Tångring
+46(0)734-171309 jan@etn.se
(redaktion)