... nu ska få utökade resurser. Holländska ASMLs beslut att överge eLith och Scalpel kom efter att företagets kunder sagt sig föredra extrem-UV-tekniken. ASML är även involverat i utvecklingen av den t ...
... totypsystem som vid 13,4 nm kan skapa mönster ner till 70 nm. Prototypsystemet visar att många av de problem som extrem-UV brottats med nu är lösta eller åtminstone på väg att lösas. Trots att mycket a ...
... ysföretaget RHK. Ett annat lyckat samarbete är mellan tyska Carl Zeiss och holländska ASML. De båda företagen har utvecklat litografiutrustning för 300 mm-skivor inom Medeas ram men samarbetet började re ...
... policy att delta i utvecklingen av samtliga framtida litografitekniker. ASML deltar även i det europeiska Euclides- programmet som siktar till att utveckla extrem UV-teknik. Samarbetet med Lucent kommer troli ...