About / Advertise
Täbyföretaget Micronic tar hjälp av tyska Fraunhofer för att ta fram en ny generation laserritare för fotomasker till halvledarprocesser under 0,18 μm.
Tekniken baserar sig på en matris med miljontals mikromekaniska speglar som belyses med UV-ljus.
- Målsättningen är att ha en första prototyp framme år 2001, säger Hans Buhre som är teknisk direktör på Micronic Laser Systems.
Det är företagets Omegaserie av laserritare för framställning av fotomasker till halvledarindustrin som ska få en ny optodel. Micronic utvecklar själv optiken medan det tyska forskningsinstitutet Fraunhofer bidrar med kunskap om spatiella ljusmodulatorer. Det är en matris av styrbara, mikromekaniska speglar. Samma teknik används i digitala projektorer där kretsen med mikrospeglarna tillverkas av Texas Instruments.
Tekniken bygger på att speglarna belyses med pulserande ultraviolett ljus. Varje spegel i matrisen styrs individuellt och kan antingen reflektera ljuset eller släcka ut det.
- Till att börja med blir våglängden 248 nm, men den går att minska till 193 nm, 157 nm eller ännu kortare, säger Hans Buhre.
Fler och finare detaljer
Mönstret ritas upp genom att speglarnas inställning ändras för varje ljuspuls samtidigt som masken på XY-bordet förflyttas. Allt går med en hastighet av 1 000 ljuspulser per sekund.
- Den nya modellen hinner rita fler och finare detaljer än den gamla men eftersom komplexiteten i kretsarna hela tiden växer så tar det ändå ett par timmar för en hel mask.
Masken tillverkas i skala fyra till ett, vilket innebär att den är fyra gånger större än det mönster som ritas på halvledarytan. Dock finns vissa detaljer för upplösningsförbättring som är mindre.
Per Henricsson
