Nederländska ASML har en monopolliknande ställning inom litografimaskiner för halvledartillverkning. Företaget överväger att använda sitt kunnande för att utveckla litografimaskiner för 3D-byggsätt, skriver nyhetsbyrån Reuters.
ASML har ett extremt stort kunnande inom litografi och AI-området kan betala för avancerade byggsätt som ökar prestanda och sänker energiförbrukningen.
– Vi tittar inte bara på de kommande fem åren, vi tittar på de närmaste 10, kanske 15 åren. (Vi tittar på) vilka potentiella riktningar branschen kan ta, och vad det skulle kräva i form av kapsling, bondning, etc, sade ASML:s teknikchef Marco Pieters till Reuters.
I oktober förra året lanserade ASML en första maskin kallas Twinscan XT.260. Det är en litografimaskin för att skapa det mönster på AI-chippet som förbinder det med HBM-minnet som placeras ovanpå.
ASML:s maskin är en så kallad skanner i motsats till dagens maskiner som är steppers. Skillnaden ligger i att en stepper exponerar hela mönstret för ett chip och sedan flyttar wafern så att nästa chip kan exponeras.
I en skanner rör sig en smal ljusslits över mönstret (masken) samtidigt som wafern rör sig i motsatt riktning. Det fungerar mer som en rörlig skannerbädd.
ASML:s maskin använder en ljuskälla på 365 nm, vilket är en äldre men mycket stabil teknik som ger en upplösning på ungefär 400 nm.
En skanner är upp till fyra gånger snabbare utan att kvaliteten blir lidande. Enligt ASML klarar XT.260 270 stycken 300 mm-wafers per timme.
Den har heller inga begränsningar i hur stor yta som kan exponeras.

