About / Advertise 
Uppstartsföretaget Alixlabs i Lund, som utvecklar en metod för att göra litografiprocessen vid halvledartillverkning under 7 nm billigare och snabbare, har lanserat en betamaskin kallad Sax Forma. Därmed kan kunderna testa tekniken i sina egna 300 mm-processer.
Det absolut dyraste steget i de mest avancerade halvledarprocesserna är litografin. Alixlabs vill sänka kraven på litografin för ett antal lager i halvledarstacken med hjälp av plasmabaserad torretsning. I början av 2025 visade företaget att det fungerar i vad som motsvarar en 3 nm-process baserat på wafers från Intel.
– Vi kan splitta linjära mönster från inkommande litografi, oberoende om det är DUV, EUV eller nanoimprint. Allt har verifierats med olika kunder, skriver företagets vd Jonas Sundqvist och fortsätter:
– Efter vår process behöver man en så kallad ”cut mask” för att kapa linjerna på tvären för att få exempelvis strukturerade fenor eller vias. Det är precis så det går till vid SADP (Self-Aligned Double Patterning), SAQP (Self-Aligned Quadruple Patterning) eller andra likartade ”multi-patterning”-processer, fast de behöver upp till sju enskilda processteg för att splitta linjer, vilket vi gör i ett processteg
Tekniken har döpts till APS (Atomic Layer Etch Pitch Splitting) och nu lanserar företaget den första kommersiella versionen av maskinen kallad Sax Forma. Namnet kommer från svärdet seax som användes av germanska folk under folkvandringstiden och verbet forma.
– Ett kluster med upp till fyra APS-processkammare kan betjänas helt automatiskt med automatisering från Kontron AIS och Brooks Automation via 300 mm-skyttlar, FOUP:er, skriver Jonas Sundqvist.
Maskinen är byggd av nederländska VDL ETG Projects i Eindhoven som är en kontraktstillverkare av bland annat maskiner till halvledarindustrin.
Nästa version av maskinen, en gammamodell, är planerad till 2028.
