JavaScript is currently disabled.Please enable it for a better experience of Jumi. Arm släpper IoT-process i 55 nm ULP
Tillsammans med kiselsmedjan UMC har brittiska Arm tagit fram fysisk IP för sina kärnor i UMC:s nya strömsnåla process 55 nm ULP. Enligt Arm är den en utmärkt process för Internet of Things.
– UMC sitter på branschens mest robusta IoT-specifika 55-nm-teknikplattform, säger UMC:s Shih-Chin Lin i en pressrelease från Arm.

Han hävdar att IoT-noder av det slag som aldrig går i vila särskilt ska gynnas av processen.

Arm anser sig ha trimmat UMC:s redan strömsnåla process till ännu lägre läckströmmar och ännu högre energieffektivitet.  

Arms bibliotek stöder 0,9 volt drivspänning, vilket ska spara 44 procent i dynamisk effekt och minska den läckta effekten med 25 procent jämfört med 1,2 volt. De stöder också blandade kanallängder vilket kan utnyttjas för växla mellan prestanda (korta kanallängder) eller strömsnålhet (långa kanallängder).

Här finns också ett Thick gate oxide-bibliotek som sänker läckströmmarna till 1/350 i celler som alltid är på, jämfört med standardceller.

Prenumerera på Elektroniktidningens nyhetsbrev eller på vårt magasin.


MER LÄSNING:
 
KOMMENTARER
Kommentarer via Disqus

Anne-Charlotte Lantz

Anne-Charlotte
Lantz

+46(0)734-171099 ac@etn.se
(sälj och marknads­föring)
Per Henricsson

Per
Henricsson
+46(0)734-171303 per@etn.se
(redaktion)

Jan Tångring

Jan
Tångring
+46(0)734-171309 jan@etn.se
(redaktion)