Täbyföretaget Micronic och holländska ASML är på väg att bilda ett gemensamt bolag som ska utveckla ett optiskt system för direktritning av kiselskivor.
En av halvledarvärldens största stötestenar är de skenande kostnaderna för fotomaskerna som krävs i de litografiska processerna. Direktritning ett billigare alternativ än dagens litografiska processer. Fördelen med direktritning är att man slipper fotomasker. Istället ritas mönstret direkt på kiselskivan. Nackdelen är att tekniken inte blir lika snabb som vanlig litografi för volymproduktion. Direktritning blir därför ett lockande alternativ vid prototyptillverkning, för konstruktionen som går i små serier samt för konstruktioner som snabbt måste nå marknaden. |
Tanken är att man inom det nya bolaget ska utveckla ett optiskt system för direktritning som kombinerar Micronic SLM-teknik för fotomasktillverkning med ASMLs teknik inom halvledarlitografi. SLM står för spatial light modulator och grunden är en mikromekanisk matris av minimala speglar som utgör hjärtat i Micronics modernaste maskritare (se Elektroniktidningen nr 20 år2002 sid 20).
De två företagen har redan samarbetat några år och under senare tid har de tillsammans skapat en teknisk plattform för direktritning.
- Plattformen är klar, så nu vi vet vilken väg vi ska gå för att ta fram en teknisk lösning.
- Under våren har vi varit i nära kontakt med halvledartillverkarna och de har visat ett starkt intresse för direktritning.
Marknadens intresse har avgjort att tiden nu är inne för att bilda ett nytt bolag kring tekniken.
Ännu är namnet på bolaget inte bestämt. Inte heller var det ska ligga.
- Det finns teknisk kompetens i både Holland och Sverige så ett hett tips är att bolaget hamnar på endera stället men att aktiviteter kommer att ske på båda ställen, säger Carl-Johan Blomberg.
Anna Wennberg