- Vårt mål är att trimma den optiska litografin så långt som möjligt, så att industrin inte behöver byta till dyrare alternativ förrän det blir absolut nödvändigt, säger Robert Allen, forskningschef vid IBMs Almaden-labb i San José, till nyhetsbrevet physorg.com.
Forskarlaget använde djupt ultraviolett optisk litografi, med en högrefraktiv lins intill kiselskivan. Just den högrefraktiva linsen anges som ett skäl till att man lyckats pressa sig förbi 32 nm, där man tidigare trodde att gränsen gick.
Bortom konventionell optisk litografi hägrar extrem-UV, även kallad ”mjukröntgen”. Här återstår dock mycket forskning innan några processmetoder kan anses vara färdiga.
- Vi tror nu att industrin har minst sju år på sig innan några så radikala förändringar i produktionstekniken blir möjliga, säger Allen.