JavaScript is currently disabled.Please enable it for a better experience of Jumi. NEC först till 55 nm

En 55 nm-process från NEC beräknas redo för massvolymer under år 2007.
Processtekniken heter UX7LS och är en krympt version av NEC:s 65 nm-teknik. Den ska användas både i DRAM och i strömsnåla systemkretsar (SoC).

Enligt NEC ska UX7LS kunna ge samma prestanda som 45-nm-teknik, till mindre strömförbrukning.

Standbyströmmen ska vara en tiondel av den man får i 65-nm-teknik. Förklaringen ligger i den hafniumsilikatfilm som transistorerna använder som isolator och vad den tillåter dig att göra för att bestämma optimala matnings- och tröskelspänningar.

Designreglerna är desamma som i den tidigare 65-nm-processen. Krympningen från 65 till 55 nm sker genom immersionslitografi.

Prenumerera på Elektroniktidningens nyhetsbrev eller på vårt magasin.


MER LÄSNING:
 
KOMMENTARER
Kommentarer via Disqus

Rainer Raitasuo

Rainer
Raitasuo

+46(0)734-171099 rainer@etn.se
(sälj och marknads­föring)
Per Henricsson

Per
Henricsson
+46(0)734-171303 per@etn.se
(redaktion)

Jan Tångring

Jan
Tångring
+46(0)734-171309 jan@etn.se
(redaktion)