Det är nyhetsbyrån Bloomberg som skriver att den nederländska regeringen överväger att inte förnya ASML:s tillstånd för service av avancerade litografimaskiner i Kina. Om det stämmer blir maskinerna obrukbara och som konsekvens kommer foundryt SMIC inte längre att kunna tillverka kretsar på 7 nm och 5 nm.
Det handlar om så kallade DUV-maskiner i Twinscan NXT-familjen, generationen före de EUV-maskiner som inte får exporteras till Kina. Genom att dela upp ett masksteg i två, fyra eller fler masker, kan EUV-maskiner skapa det önskade mönstret på wafern trots att det fysiskt borde vara omöjligt. Tekniken kallas multi-patterning och används i kinesiska processer för både 7 nm och 5 nm.
Kunder som TSMC, Intel och Samsung använder istället EUV-maskiner med kortare våglängd för uppgiften att skapa de understa lagren i transistorn, med en mask per steg vilket är billigare och ger färre fel.
Enligt Bloomberg hotar amerikanska myndigheter med att tillämpa det som kallas Foreign Direct Product Rule och som berör alla produkter som innehåller minsta spår av amerikansk teknik. Den ger möjlighet att strypa exporten av teknik och därmed stoppa tillverkningen för det berörda företaget. I det här fallet ASML
Förbudet skulle inte gälla litografimaskiner som används för äldre halvledarprocesser vilket är huvuddelen av de maskiner som ASML servar i Kina.