About / Advertise
Svenska Innolite ska se till att Europa blir ledande på extrema uv-ljuskällor för litografi. Tillsammans med bland annat en tysk och en fransk industrigrupp ska det svenska företaget ta fram en kommersiell ljuskälla innan 2005.
Projektet drivs inom ramen för Medea+. Ett europeiskt forskningsprojekt inom mikroelektronik som ska stärka europeisk industri mot konkurrenter i USA och Japan.
Innolites bidrag i projektet är företagets ljuskälla som baseras på en stråle av flytande xenon som värms av en laser för att alstra ljus av våglängden 13,5 nm. Idag används ljus med våglängder på mellan 193 och 157 nm i den vassaste utrustningen.
I projektet finns också två andra ljuskällor, bland annat en från Philips, som i stället baseras på urladdning i gas. Men enligt Innolites vd Bert Junno går det att bygga en mindre och effektivare ljuskälla med det egna företagets teknik
- Storleken på ljuskällan är viktigt för hur ljuset färdas i litografimaskinen och avgör hur noggrann upplösning det går att ha på detaljerna i den färdiga masken.
Tongivande i projektet är det tyska företaget Extreme Technologies som ägs av Lambda Physik och Jenoptik och en fransk industrigrupp bestående av bland annat Alcatel och Thales Laser.
- Den industriella kopplingen är viktig. Det för oss framåt en bra bit när det gäller trovärdigheten hos potentiella kunder, säger Bert Junno.
De tyska och franska företagen jobbar främst med lasrar och den optik som krävs kring den extrema uv-ljuskällan.
Pengarna till projektet kommer dels från företaget självt, dels från svenska staten via Vinnova. Sven-Ingmar Ragnarsson som håller i ansökningarna på Vinnova kan inte uttala sig om hur mycket pengar företaget kommer att tilldelas men säger att det kan handla om i storleksordningen 50 miljoner kronor under tre år.
2003 är det tänkt att det ska avgöras vilken av ljuskällorna projektet kommer att gå vidare med. Meningen är att hela projektet ska avslutas med att ta fram en kommersiellt gångbar ljuskälla som kan användas i framtidens maskritare.
Innolites bidrag i projektet är företagets ljuskälla som baseras på en stråle av flytande xenon som värms av en laser för att alstra ljus av våglängden 13,5 nm. Idag används ljus med våglängder på mellan 193 och 157 nm i den vassaste utrustningen.
I projektet finns också två andra ljuskällor, bland annat en från Philips, som i stället baseras på urladdning i gas. Men enligt Innolites vd Bert Junno går det att bygga en mindre och effektivare ljuskälla med det egna företagets teknik
- Storleken på ljuskällan är viktigt för hur ljuset färdas i litografimaskinen och avgör hur noggrann upplösning det går att ha på detaljerna i den färdiga masken.
Tongivande i projektet är det tyska företaget Extreme Technologies som ägs av Lambda Physik och Jenoptik och en fransk industrigrupp bestående av bland annat Alcatel och Thales Laser.
- Den industriella kopplingen är viktig. Det för oss framåt en bra bit när det gäller trovärdigheten hos potentiella kunder, säger Bert Junno.
De tyska och franska företagen jobbar främst med lasrar och den optik som krävs kring den extrema uv-ljuskällan.
Pengarna till projektet kommer dels från företaget självt, dels från svenska staten via Vinnova. Sven-Ingmar Ragnarsson som håller i ansökningarna på Vinnova kan inte uttala sig om hur mycket pengar företaget kommer att tilldelas men säger att det kan handla om i storleksordningen 50 miljoner kronor under tre år.
2003 är det tänkt att det ska avgöras vilken av ljuskällorna projektet kommer att gå vidare med. Meningen är att hela projektet ska avslutas med att ta fram en kommersiellt gångbar ljuskälla som kan användas i framtidens maskritare.
Jonas Ryberg
