JavaScript is currently disabled.Please enable it for a better experience of Jumi. Tiondels μm gräns för optisk lito

Lasrar med kortare våglängder gör att halvledarindustrin kan använda optisk litografi ett tag till

Halvledartillverkarma behöver inte investera i röntgen-, elektronstråle- eller jonstrålelitografi förrän linjebredderna kryper under 0,1 μm, alltså först vid 64 Gbit-generationen. Det menar man på det belgiska mikroelektronikcentret Imec.

Optisk litografi går att använda ett bra tag till. Men nästa generation litografimaskiner kommer enligt utrustningstillverkaren ASM Lithography, att kosta mellan 50 och 100 procent mer än dagens maskiner.

Imec och ASM Lithography samarbetar om att utveckla litografimaskiner. Halvledartillverkarna har inbjudits att delta. De nya maskinerna utnyttjar våglängden 193 nm istället för som vanligt idag 248 nm. Det är en excimerlaser av argonfluorid som används istället för kryptonfluoride.

Å andra sidan kommer de nya maskinerna att bli betydligt snabbare än dagens maskiner. De väntas kunna hantera över hundra kiselskivor per timme. ASM Lithography hoppas kunna introducera de nya maskinerna 1998.

Gittan Cedervall



Prenumerera på Elektroniktidningens nyhetsbrev eller på vårt magasin.


MER LÄSNING:
 
KOMMENTARER
Kommentarer via Disqus

Anne-Charlotte Lantz

Anne-Charlotte
Lantz

+46(0)734-171099 ac@etn.se
(sälj och marknads­föring)
Per Henricsson

Per
Henricsson
+46(0)734-171303 per@etn.se
(redaktion)

Jan Tångring

Jan
Tångring
+46(0)734-171309 jan@etn.se
(redaktion)