About / Advertise
Kiselkarbidföretaget Norstel i Norrköping har skrivit ett strategiskt utvecklingsavtal med det japanska industriforskningsinstitutet AIST. Tillsammans ska de två utveckla en tillverkningsprocess som ger kiselkarbidskivor till halvledarindustrin.
Norstel tillverkar substrat för kiselkarbidskivor i Norrköping. Men dilemmat hittills har varit att det är svårt att få till en produktionsprocess som ger skivor som duger till elektronikkomponenter. Nu har Norstel lierat sig med the Energy Technology Research Institute (ETRI) of National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) i japanska Tsukuba. De två har skrivit avtal som innebär att de gemensamt ska utveckla en produktionsprocess som kan användas för att volymtillverka stora kiselkarbidskivor med hög kvalitet.
Japanska AIST använder – likt nästan alla andra kiselkarbidtillverkare – sublimering för att skapa kiselkarbidsubstratet. Norstel har däremot utvecklat en egen metod, kallad HTCVD (High Temperature Chemical Vapor Deposition), som innebär att en gas används istället för pulver för att få kiselkarbidkristallerna att växa. Metoden har utvecklats av en forskargrupp på Linköpings universitet i samarbete med ABB och påstås ge högre renhet i kiselkarbidkristallen än sublimering. I utvecklingssamarbetet som nu tar form kommer man att utgå från Norstels HTCVD-metod.
