JavaScript is currently disabled.Please enable it for a better experience of Jumi. Äntligen dags för EUV

En icke namngiven amerikansk kund – läs Intel – har beställt minst 15 avancerade litografisystem av nederländska ASML. Det som gör ordern intressant är att det handlar om extremt ultraviolett ljus, EUV.
EUV har länge pekats ut som nästa litografiteknik för halvledartillverkning när dagens system med ljus på 193 nm inte längre fungerar. Men det höga priset för EUV har gjort att man böjt fysikens lagar med olika trick för att kunna använda dagens billigare ljuskälla men ändå tillverka kretsar med geometrier som är mindre än ljuskällans våglängd.

För tre år sedan slog sig Intel, TSMC och Samsung ihop genom att stödja ASML:s utveckling av EUV med 13,5 nm.

Processorjätten Intel var först ut av de tre och satsade 3,1 miljarder dollar i en kombination av utvecklingsstöd och köp av nyemitterade aktier i ASML. Strax efteråt hakade foundryt TSMC på och lade in 1,04 miljarder dollar. Sist ut var Samsung som lade 345,5 miljoner dollar i utvecklingsstöd och köpte 3 procent av ASML för 629,5 miljoner dollar.

Intels och TSMC:s andelar av ASML är 15 respektive 5 procent.

Och nu har en icke namngiven amerikansk kund beställt minst 15 system varav två ska levereras redan i år. Kunden har redan EUV-system och ska använda de nya systemen för att påskynda utvecklingsarbetet och för att starta pilotproduktion av en ny halvledarprocess.

EUV-maskinerna ska användas för litografi av ett par olika processteg, något som enligt ASML leder till bättre utbyte och snabbare produktionstid.
MER LÄSNING:
 
KOMMENTARER
Kommentarer via Disqus

Anne-Charlotte Lantz

Anne-Charlotte
Lantz

+46(0)734-171099 ac@etn.se
(sälj och marknads­föring)
Per Henricsson

Per
Henricsson
+46(0)734-171303 per@etn.se
(redaktion)

Jan Tångring

Jan
Tångring
+46(0)734-171309 jan@etn.se
(redaktion)