JavaScript is currently disabled.Please enable it for a better experience of Jumi. Numerical förskjuter fas

Geometrierna i halvledare är nu mindre än den våglängd som används i optisk litografiutrustning, vilket medför att halvledarindustrin stöter på patrull under 0,18 μm. Fenomenet kallas undervåglängdsdistorsion.

För att avhjälpa problemet presenterar Numerical Technologies en teknik baserad på fasskift.

Man introducerar därmed masker med mindre element som inte resulterar i tryck, utan enbart påverkar ljuset. Det ökar den optiska upplösningen och korrigerar för undervåglängdseffekter.

Tekniken har använts i MIT Lincoln Laboratory för att producera det första 0,05 μm-mönstret, helt och hållet producerat med befintlig 248 nm optisk litografiutrustning.

Under Date-veckan tillkänna-gav Numerical Technologies också att man startar verksamhet i Europa.

SH

Prenumerera på Elektroniktidningens nyhetsbrev eller på vårt magasin.


MER LÄSNING:
 
KOMMENTARER
Kommentarer via Disqus

Rainer Raitasuo

Rainer
Raitasuo

+46(0)734-171099 rainer@etn.se
(sälj och marknads­föring)
Per Henricsson

Per
Henricsson
+46(0)734-171303 per@etn.se
(redaktion)

Jan Tångring

Jan
Tångring
+46(0)734-171309 jan@etn.se
(redaktion)