About / Advertise 
Den har betydligt kortare våglängd, drar mindre ström och är dessutom betydligt billigare. Norska Lace Lithography har tagit in 40 miljoner dollar för att utveckla tekniken som kan bryta ASML:s monopol på avancerad litiografi och dessutom göra halvledartillverkningen billigare.
ASML använder en extremt kraftfull CO2-laser från tyska Trumpf som skjuter 100 000 pulser på 50 000 tenndroppar varje sekund. Varje droppe träffas av två pulser där den första formar droppen och den andra förångar den till ett plasma som genererar EUV-ljus med en våglängd på 13,5 nm.
Varje maskin kostar runt 380 miljoner euro men den extrema upplösningen behövs bara till de understa lagren i halvledarstacken där själva transistorerna finns. Högre upp är dimensionerna betydligt större så där används billigare maskiner.
Norska Lace Lithography vill ersätta EUV-källans fotoner med en elektronstråle bestående av metastabila (exciterade) heliumatomer vilket har potential att förbättra upplösningen med en faktor tio.
Företaget tar nu in 40 miljoner dollar i en runda ledd av Skypegrundaren Niklas Zennströms riskkapitalbolag Atomico. Microsofts riskkapitalfond M12 liksom Linse Capital, SETT och Nysnø deltar också. Lace grundades 2023 och har tidigare tagit in drygt 20 miljoner dollar.
För att vara praktiskt användbart i volymproduktion behövs också masker och Lace säger sig ha löst problemet med hur man designar dem med hjälp av AI, vilket ska snabba upp processen med en faktor 15.
En första maskin kan vara klar runt 2029.
Lace är inte det enda företaget som försöker ta fram en ny ljuskälla för avancerad litografi. I slutet av förra året meddelade exempelvis Trump-administrationen att den skulle investera upp till 150 miljoner dollar i Xlight som utvecklar en ljuskälla baserad på samma teknik som i partikelacceleratorer och i Kina driver Huawei enligt medieuppgifter som fick stor uppmärksamhet i december förra året ett projekt för att ta fram en EUV-källa.
