Att konstruera stora system på kisel kräver omfattande kontroll av halvledartillverkarnas designregler. Tack vare ett samarbete mellan EDA-bolagen Mentor Graphics och Springsoft kan detta nu göras i realtid.
Efter layout, verifiering och simulering måste en halvledarkonstruktion alltid kontrolleras gentemot tillverkarens designregler, en så kallad DRC, Design Rule Check. I takt med att halvledarprocesserna förfinats så har även DRC-dokumenten ökat i omfång från några tiotal sidor för ett decennium sedan till flera hundra sidor för dagens 32 nm-processer. Att göra detta manuellt genom att försöka lägga alla regler på minnet och ta hänsyn till dem under designarbetets gång är numera ogörligt.
Mentor Graphics och Springsoft har löst detta genom ett nära samarbete mellan Mentorverktyget Calibre och Springsofts verktyg Laker. Calibre står för kontrollen av designreglerna, medan layouten görs i Laker. Designflödet ändras inte, den enda skillnaden är att konstruktören omedelbart får reda på att ett block eller en hel krets följer processens alla regler. Tack vare återkopplingen i realtid kan veckor eller månader av tid sparas, hävdar bolagen.
Verktygen samarbetar genom standarden Open Access. Varje gång en designer ändrar en polygon, en dataväg eller en placering i Laker så upptäcker Calibre förändringen, och gör automatiskt en kontroll av att ändringen inte bryter mot någon designregel. Användarna kan också lägga till egna regler och designstilar.