JavaScript is currently disabled.Please enable it for a better experience of Jumi. Intel söker partner för UV-litografi

Intel vill bilda ett konsortium för att utveckla en litografisk teknik, som utnyttjar så kallad extrem UV.

Med en sådan teknik skulle det bli möjligt att tillverka strukturer på mellan 0,10 μm och 0,05 μm. Men eftersom företaget räknar med kostnader på hundratals miljoner dollar för att utveckla tekniken under de kommande åren vill man dela kostnaden med ett antal samarbetspartner.

Intel har redan ett samarbete igång med statligt finansierade National Laboratories, som har utvecklat en teknik i ett spinnoff-projekt till det amerikanska Star Wars-programmet. Därmed kommer UV-konsortiet troligen att bestå endast av amerikanska företag.

Prenumerera på Elektroniktidningens nyhetsbrev eller på vårt magasin.


MER LÄSNING:
 
KOMMENTARER
Kommentarer via Disqus

Anne-Charlotte Lantz

Anne-Charlotte
Lantz

+46(0)734-171099 ac@etn.se
(sälj och marknads­föring)
Per Henricsson

Per
Henricsson
+46(0)734-171303 per@etn.se
(redaktion)

Jan Tångring

Jan
Tångring
+46(0)734-171309 jan@etn.se
(redaktion)