För att komma vidare måste man kunna tillverka materialet i större ytor för att kunna göra skivor - wafers - lämpliga för halvledarproduktion. Forskarna vid Linköping och Chalmers har utgått från skivor av kiselkarbid, avlägsnat kislet från ytan och lämnat kvar ett lager kolatomer. Med metoden har forskarna lyckats få 10 000 gånger högre precision än de bästa resultat som uppnåtts genom att skala av kolatomlager från grafit.
– Resultaten ger den första resistansstandarden, det vill säga ett mått på elektriskt motstånd som bara beror på naturkonstanter, som fungerar vid en temperatur på 4,2 K, säger Sergey Kubatkin på Chalmers som lett forskningen där.
Tidigare resistansstandarder har varit baserade på kisel eller galliumarsenid. De har varit betydligt svårare att framställa och använda, och fungerar bara vid ännu lägre temperaturer.
Tillverkningsmetoden är framtagen vid Linköpings universitet av Rositza Yakimova, Mikael Syväjärvi och Tihomir Iakimov.
– Detta visar att svensk forskning håller världsklass när det gäller att ta fram nya material med tillräckligt hög prestanda för framtidens elektronik, säger Mikael Syväjärvi i ett pressmeddelande.
Resultaten är publicerade i nätupplagan av tidskriften Nature Nanotechnology.