About / Advertise
Japanska Canon har fått mycket uppmärksamhet för sin nanoimprintmaskin som utmanar ASML:s monopol på den vassaste litografin. Experter som EETimes pratat med anser att det kommer att ta åratal innan den kan ersätta EUV-tekniken.
Det var den 13 oktober som Canon släppte nyheten att nanoimprintmaskinen FPA-1200NZ2C klarade att göra mönster med en linjebredd på 14 nm vilket är tillräckligt för en 5 nm-process. Företaget skriver också att det kommer att gå att sänka det till 10 nm vilket räcker för en 2 nm-process.
Med nanoimprintlitografi, eller NIL, ”stämplas” mönstret istället för att det skapas med en fotomask och ljus. Fördelarna är uppenbara, man slipper den extremt dyra ljuskällan för EUV-ljuset på 13,5 nm plus maskerna.
Å andra sidan har nanoimprint ett rykte om sig att ge fler defekter och inte linjera lika bra mellan lagren som optisk litografi.
Hur det ligger till med detta sade Canon inget om i pressmedelandet, men experter på Imec och Gartner som EE Times pratat med ser det som osannolikt att branschen (läs TSMC, Samsung och Intel) skulle överge EUV i brådrasket.
Däremot skulle Kina kunna vara en marknad. Men eftersom Canons maskin delvis använder teknik från amerikanska Molecular Imprints, som förvärvades 2014, sätter de amerikanska exportrestriktionerna stopp för det.
Hur det går är för tidigt att sia om. Fungerar maskinen som utlovat kan den mycket väl bli ett alternativ om några år i avancerade noder, särskilt som den har betydligt lägre energiförbrukning.
