JavaScript is currently disabled.Please enable it for a better experience of Jumi.
Annonsera Utgivningsplan Månadsmagasinet Prenumerera Konsultguide Om oss  About / Advertise
Om ett halvår kommer Alteras första FPGA-kretsar tillverkade i 65 nm. Den nya processen lovar både bättre prestanda, fler logikblock och sänkt effektförbrukning.
– Alteras strategi är inte att vara först med att släppa sampel. Vi vill vara först med volymproduktion, säger Pat Mead på Altera.

Uttalandet ska ses med bakgrund av att ärkerivalen Xilinx börjat leverera sina första produkter i 65 nm. För Altera dröjer det till mitten av tredje kvartalet innan företaget kan förse kunderna med kretsar.

– Vi har hållit på med 65 nm i tre år, har kört åtta vändor och nu håller vi på med de sista finjusteringarna. Prestanda ökar med cirka 20 procent och det maximala antalet logikblock dubbleras.

Det blir dock inga stora förändringar i arkitekturen den här gången. De tog Altera vid 130 nm när företaget ändrade bland annat metod för routing, minnesarkitektur, DSP-block, införde redundans i logiken och modifierade designflödet. Men helt utan förändringar klarar man sig inte, då skulle effektförbrukningen slå i taket.

Altera lanserar därför begreppet ”just enough performance” som innebär att programvaran optimerar varje block i FPGA:n med avseende på prestanda och därmed effektförbrukning.

– Det görs automatiskt av verktygen genom att man sätter tidsvillkor. Normalt klarar sig 80 procent av blocken med låg prestanda, säger Pat Mead.

Varje block kan köras i tre lägen: snabbt, mellan och långsamt. Dessutom går det att stänga av block som inte används. I snabbläget sjunker effektförbrukningen med 30 procent jämfört med den tidigare 90 nm-processen. I mellanläget minskar den med 50 procent och det långsamma läget ger en 70 procentig minskning av effektförbrukningen.

Bytet av process innebär också att matningsspänningen till kärnan sänks från 1,2 V till 1,0 V.
Resultatet blir att både den dynamiska och statiska effektförbrukningen går ned jämfört med den tidigare 90 nm-processen. Hur mycket det blir i praktiken beror förstås på tillämpningen men Altera hävdar att en konstruktion för Stratix II som överförs till den nya processen för Stratix III kan få en halvering av effektförbrukningen.
MER LÄSNING:
 
LIVE IDAG:
Internationella rymdstationen
Pappersmagasinet Nyhetsbrev
SENASTE KOMMENTARER
Kommentarer via Disqus

Vi gör Elektroniktidningen

Anne-Charlotte Sparrvik

Anne-Charlotte
Sparrvik

+46(0)734-171099 ac@etn.se
(sälj och marknads­föring)
Per Henricsson

Per
Henricsson
+46(0)734-171303 per@etn.se
(redaktion)

Anna Wennberg

Anna
Wennberg
+46(0)734-171311 anna@etn.se
(redaktion)

Jan Tångring

Jan
Tångring
+46(0)734-171309 jan@etn.se
(redaktion)