About / Advertise
Ny laserbaserad ritteknik förenar snabbhet med hög upplösning
Micronic har utvecklat en ny ritteknik som påstås revolutionera fotomasktillverkningen inom halvledarindustrin då den är både noggrann och snabb. Den första beställningen av det nya systemet är redan spikad av Dupont Photomasks.
Micronic har utvecklat en ny ritteknik som påstås revolutionera fotomasktillverkningen inom halvledarindustrin då den är både noggrann och snabb. Den första beställningen av det nya systemet är redan spikad av Dupont Photomasks.
- Vår nya ritteknik är ett genombrott inom fotomasktillverkningen. Det har krävts svett, tårar och stora investeringar för att klara detta, säger Sven Löfquist, vice vd på Micronic.
Den laserbaserade rittekniken som kallas spatial light modulator, SLM, gör det möjligt att med laserteknik rita fotomaskmönster med samma upplösning som ett betydligt långsammare elektronstrålesystem och samtidigt kunna ha snabbheten hos ett lasersystem. SLM bygger på att pulserat laserljus med kort våglängd reflekteras emot en specialutvecklad matris av mikrospeglar.
Varje mikrospegel kan styras individuellt och varje reflekterad laserstråle kan därmed styras att rita mönster med hög upplösning. Mikrospeglarna har utvecklats av Fraunhoferinstitutet i Dresden.
Micronics tidigare utrustning bygger på akustoptisk diffraktionsteknik där laserljuset bryts genom en kristall. Den klarar av att släppa igenom laserstålar ner till 400 nm.
- Med kortare våglängder får den tekniken problem med upplösningen, vilket begränsar noggrannheten, säger Hans Bure, teknisk chef på Micronic. Till en början kommer den nya SLM-tekniken att användas för att rita strukturer ner till 130 nm.
- Den klarar dock att rita långt ner under 100 nm, men det dröjer förmodligen ett par år innan vi går ner till de dimensionerna, säger Hans Bure. Laserutrustningen utvecklas dessutom till att kunna använda mer kortvågigt ljus. Detta innebär att det blir möjligt att rita allt noggrannare, då rittekniken är oberoende av ljusets våglängd.
Den laserbaserade rittekniken som kallas spatial light modulator, SLM, gör det möjligt att med laserteknik rita fotomaskmönster med samma upplösning som ett betydligt långsammare elektronstrålesystem och samtidigt kunna ha snabbheten hos ett lasersystem. SLM bygger på att pulserat laserljus med kort våglängd reflekteras emot en specialutvecklad matris av mikrospeglar.
Varje mikrospegel kan styras individuellt och varje reflekterad laserstråle kan därmed styras att rita mönster med hög upplösning. Mikrospeglarna har utvecklats av Fraunhoferinstitutet i Dresden.
Micronics tidigare utrustning bygger på akustoptisk diffraktionsteknik där laserljuset bryts genom en kristall. Den klarar av att släppa igenom laserstålar ner till 400 nm.
- Med kortare våglängder får den tekniken problem med upplösningen, vilket begränsar noggrannheten, säger Hans Bure, teknisk chef på Micronic. Till en början kommer den nya SLM-tekniken att användas för att rita strukturer ner till 130 nm.
- Den klarar dock att rita långt ner under 100 nm, men det dröjer förmodligen ett par år innan vi går ner till de dimensionerna, säger Hans Bure. Laserutrustningen utvecklas dessutom till att kunna använda mer kortvågigt ljus. Detta innebär att det blir möjligt att rita allt noggrannare, då rittekniken är oberoende av ljusets våglängd.
Lisa Ringström
