About / Advertise
Konsortiet X Initiative har visat att det går att göra halvledare med diagonalt dragna ledare ner till 130 nm. Tidigare har minsta kanallängd varit 180 nm.
Genom att dra ledare diagonalt, i stället för enbart vinkelrätt, går det att minska den totala ledarmängden i en krets med 20 procent samtidigt som antalet viahål minskar med 30 procent. Då kan man spara pengar, samtidigt som hastigheten ökas och effekten minskas utan att man för den skulle behöver gå ner i geometri.Det hävdar åtminstone industrigruppen X Initiative som är en drivande kraft bakom arkitekturen The X Architechure, där diagonala ledare används i fjärde och femte metallagret.
Visat upp kretsar
Nyligen visade konsortiet att tekniken fungerar ner till 130 nm, med hjälp av en krypton-fluoridlaserbaserad litografiutrustning från Nikon, konstruktionsdata från Cadence, optisk korrektion från Numerical Technologies och fotomasker från Du Pont.
Tidigare har man visat att arkitekturen fungerar vid 180 nm, men nu är vägen jämnad för att fortsätta neråt i geometri.
- Vi ser inga hinder för att ta fram X-arkitekturkretsar, säger Toshikazu Umatate på Nikon i ett pressmeddelande.
Bakom X Initiative står ett trettiotal företag i hela kedjan från konstruktionsverktyg till halvledarproduktion. Målet är att på fem års sikt skapa en fungerande infrastruktur så att X-arkitekturen kan bli ett hållbart alternativ till dagens Manhattanarkitektur.
Adam Edström
