JavaScript is currently disabled.Please enable it for a better experience of Jumi. Nästan som vanligt kisel

Kiselgermanium

Det är litet missvisande att sortera in kiselgermanium bland de exotiska materialen.
Det ligger egentligen närmare en dopningsvariant av vanligt kisel än ett eget material, och det är bara ett processteg som skiljer en kiselgermaniumprocess från en vanlig BiCMOS-process.

Det handlar om att öka arbetsfrekvensen i bipolära kiseltransistorer genom att minska den inbyggda resistansen.

Ett sätt att minska resistansen är att öka dopningen, men högre dopning försämrar förstärkningsegenskaperna. Lägger man på ett kiselgermaniumskikt kan man däremot öka dopningen och ändå behålla förstärkningen.

Eftersom kiselgermanium inte klarar av högre effekter än vanligt kisel är det framför allt högfrekvenstillämpningar med relativt låg effekt som är tänkta som användningsområden. Mobiltelefoni och trådlösa datanät, men även optonät brukar komma på tal.

Tekniken har utvecklats fort, med elektronikmått mätt. 1987 kom de första forskningsartiklarna kring materialet. 1996 började de första komponenterna dyka upp, och 1999 började tillverkarna lansera färdiga processer. I dag kan tekniken med gott samvete kallas mogen för storskalig användning.

Likheten med vanligt kisel gör att befintliga konstruktionsverktyg och produktionsanläggningar kan användas för kiselgermanium. Tekniken är därför jämförelsevis billig, i storleksordningen 10-20 procent dyrare än vanligt BiCMOS.

Elias Nordling

Prenumerera på Elektroniktidningens nyhetsbrev eller på vårt magasin.


MER LÄSNING:
 
KOMMENTARER
Kommentarer via Disqus

Rainer Raitasuo

Rainer
Raitasuo

+46(0)734-171099 rainer@etn.se
(sälj och marknads­föring)
Per Henricsson

Per
Henricsson
+46(0)734-171303 per@etn.se
(redaktion)

Jan Tångring

Jan
Tångring
+46(0)734-171309 jan@etn.se
(redaktion)