About / Advertise
Vid 45 nm kan litografiska fenomen ställa till bekymmer, liksom ojämn polering av kiselskivorna. Cadence har lanserat verktyg som ska lösa dessa problem.
– Ungefär 20 procent av de konstruktioner vi jobbar med ligger kring 45 nm. Och jag har sett flera företag gå direkt från 90 till 45 nm, utan att göra något vid 65 nm, säger David Deshamais, marknadsansvarig för Cadence Encounterfamilj.Varje ny halvledarnod ställer nya krav på både konstruktören och dennes verktyg.
– Vid 45 nm är dimensionerna så små att variationer i litografin och i poleringen av kiselskivorna får stor inverkan på slutresultatet.
Cadence lösning består av fyra programvaror, som alla är integrerade i Encounterfamiljen. Stridsropet är Wydiwyg, What You Design is What You Get, en snudd på övertydlig flirt med publiceringsteknikens barndoms Wysiwyg, What You See is What you get.
För litografiproblemet släpps två verktyg som analyserar den fysiska samt den elektriska inverkan av variationer i fotomaskerna.
– Man kan säga att det är en simulator som visar vilken hänsyn konstruktören måste ta till processvariationerna. Timingen mellan två till synes identiska övergångar kan variera med 22 procent, och läckströmmen med 300 procent.
Därtill hör ett program som förutsäger hur den kemiska-mekaniska poleringen (CMP) varierar beroende på exempelvis ledartäthet och jordplan.
Det sista verktyget är en statistisk timinganalysator, SSTA. Den beräknar sannolikheten för att sämsta möjliga timingfall uppstår, vilket gör att konstruktören kan minska säkerhetsmarginalerna när sannolikheten är liten. Det ger mindre och effektsnålare kretsar.
David Deshamais konstaterar att förbättringarna bygger på att man har en tillräckligt bra router.
– En bra routern gör 80 procent av jobbet. De andra finesserna är de sista 20 procenten.
Verktygen finns för leverans och är certifierade för processer hos bland annat TSMC, IBM, UMC, Charterd, Samsung och Elpida.
