Det stora kinesiska forskningsinstitutet CAS (Chinese Academy of Sciences) har stämt amerikanska Intel för att företaget inte tecknat licens för institutets patenterade Finfet-teknik. Intels svar är att försöka få patentet ogilitigförklarat.
Tvisten har pågått i ett år men upptäcktes av sajten IAM i samband med att Intel den 19 mars anhöll om att få patentet i fråga ogiltigförklarat i USA på myndigheten PTAB (Patent Trial and Appeal Board).
Motsvarande kinesiska myndighet PRB (China’s Patent Re-examination Board) har redan sagt nej till att ogiltigförklara motsvarande kinesiska patent. Det beskedet kom den sista januari.
Den som stämmer Intel är Institutionen för mikroelektronik. Det är ett av hundra forskningslabb under CAS och en av Kinas flitigaste patentmottagare inom halvledarområdet. Bland dessa patent finns ett antal Finfet-patent av mycket hög kvalitet, enligt en värdering gjord av den amerikanska ofta citerade patentkonsulten Lexinnova.
CAS har även stämt amerikanska datortillverkaren Dell och kinesiska ehandelsföretaget Jingdong (jd.com). På detta sätt stäms en hel näringskedja – Intel använder den patenterade tekniken i sina processorer som i sin tur används av Dell i dess datorer som i sin tur används för att driva Jingdongs ehandel.
Och Dell och Jingdong är förstås bara exempel. Om Dell måste licensera CAS patent måste alla datortillverkare som använder Intelprocessorer göra det. Så CAS tre stämningar håller hela IT-ekosystemet som gisslan.
CAS patentstämde Cree i maj 2017, så företaget är på krigsstigen och halvledarindustrin frågar sig om fler patentaggressioner kanske kan vara på väg.
Det finns dessutom fler aktuella exempel på tvister kring Finfet. I somras dömdes koreanska Samsung att betala 400 miljoner dollar för Finfet-patent tillhörandes det koreanska universitetet Kaist (Korean Advanced Institute of Science and Technology).
Det är inte alltid krig mellan CAS och Intel utan de två har sedan 2012 ett IoT-forskningsinstitut ihop i Peking. Det grundades för 270 miljoner kronor.
Finfet (Fin Field-effect transistor) är en metod att tillverka transistorer på höjden – i ”3D” – och har varit ett omtalat steg i krympningen av halvledarprocesserna. Intels första Finfet användes i processorn Ivy Bridge som släpptes i början av 2012.