About / Advertise
Den amerikanska röntgenlitografispecialisten Jmar Technologies säger sig ha en ljuskälla som kan användas i framtida litografiska tillverkningssystem baserade på extrem-UV. Laserbaserad teknik för framställning av röntgenljus har omvandlats till extrem-UV-källa.
Röntgen är inte längre en kandidat för framtida kretstillverkningssystem. Extrem-UV, som med sina 13,5 nm ibland även kallas mjukröntgen, är istället favoriten för nästa generations litografiutrustning. Jmar Technologies, som under de senaste tio åren plöjt ner mer än 35 miljoner dollar i sitt röntgenlitografiprogram, har nu även beslutat att klämma extrem-UV-ljus ur sin laserbaserade teknik.
Företaget säger sig ha demonstrerat en extrem-UV-ljuskälla baserad på företagets patenterade laserteknik och specialutvecklade våglängdsomvandlingssystem, en kombination som företaget menar ska kunna bli tillräckligt effektiv för att kunna utnyttjas för framtida kretstillverkning.
- Riktigt hur det hela fungerar har de inte avslöjat. Därför är det svårt att på det här stadiet avgöra om deras teknik konkurrerar med vår eller om vi istället skulle kunna samarbeta, säger Bert Junno på svenska Innolite, som också har en ljuskälla för extrem-UV-utrustning.
Bert Junno har dock stor respekt för Jmars röntgenteknik som närmast kommer att utnyttjas i ett steppersystem för tillverkning av galliumarsenidkretsar i en anläggning som ska stå klar 2002. Jmar köpte i början av augusti i år röntgenutrustningsföretaget Semiconductor Advanced Lithography.
Parallellt med det arbetet är Jmar enligt egen utsago i full gång med att konstruera en fullskalig extrem-UV-ljuskälla som ska generera de 100-150 W som krävs för att den ska kunna utnyttjas i litografiska tillverkningssystem. I slutet av 2002 hoppas företaget ha en 100 W prototyp klar.
Företaget säger sig ha demonstrerat en extrem-UV-ljuskälla baserad på företagets patenterade laserteknik och specialutvecklade våglängdsomvandlingssystem, en kombination som företaget menar ska kunna bli tillräckligt effektiv för att kunna utnyttjas för framtida kretstillverkning.
- Riktigt hur det hela fungerar har de inte avslöjat. Därför är det svårt att på det här stadiet avgöra om deras teknik konkurrerar med vår eller om vi istället skulle kunna samarbeta, säger Bert Junno på svenska Innolite, som också har en ljuskälla för extrem-UV-utrustning.
Bert Junno har dock stor respekt för Jmars röntgenteknik som närmast kommer att utnyttjas i ett steppersystem för tillverkning av galliumarsenidkretsar i en anläggning som ska stå klar 2002. Jmar köpte i början av augusti i år röntgenutrustningsföretaget Semiconductor Advanced Lithography.
Parallellt med det arbetet är Jmar enligt egen utsago i full gång med att konstruera en fullskalig extrem-UV-ljuskälla som ska generera de 100-150 W som krävs för att den ska kunna utnyttjas i litografiska tillverkningssystem. I slutet av 2002 hoppas företaget ha en 100 W prototyp klar.
Gittan Cedervall
