About / Advertise
Om två år ska de första prototypsystemen för extrem-UV-litografi skeppas till kretstillverkarna. Svenska Innolite är ett av företagen som vill leverera ljuskällan.
Utrustningstillverkaren ASML räknar med att kunna presentera ett prototypsystem för extrem-UV-litografi, EUVL, i slutet av nästa år. Under 2004 har nämligen åtminstone Intel planer på att dra igång testtillverkning med EUVL-system. Två år senare ska systemen vara inkörda och finslipade så att EUV-tillverkningen kan komma igång på allvar under 2007.Så ser tidplanen ut för EUVL och ASMLs marknadschef Rob Hartman tror att den ska hålla. Detta trots att flera av de ingående delarna ännu inte är färdigutvecklade. ASML och andra systemutvecklare har exempelvis ännu inte beslutat sig för vilken teknik som är bäst att utnyttja för systemens ljuskälla.
Svenska Innolite har utvecklat en av teknikkandidaterna. Innolites EUV-ljuskälla utnyttjar xenon-baserad plasmateknik.
Färdiga lösningar nästa år
- Senast under 2003 räknar vi med att en ljuskälla måste vara helt klar för EUVL-systemen. Och vi har börjat förbereda oss så att vi kan leverera färdiga lösningar baserade på vår teknik under nästa år, säger Bert Junno på Innolite.
Inom EUs FoU-program Medea+ samarbetar Innolite med bland andra Xtreme Technologies och Thales i projekt som rör ljuskällor för EUVL-system. Men enligt Bert Junno är konstellationerna inom projekten mycket rörliga.
- Utvecklingen är på väg in i en kommersiell fas och då kan samarbetspartners bli konkurrenter och tvärtom.
Gittan Cedervall
