Geometrierna i halvledare är nu mindre än den våglängd som används i optisk litografiutrustning, vilket medför att halvledarindustrin stöter på patrull under 0,18 μm. Fenomenet kallas undervåglängdsdistorsion.
För att avhjälpa problemet presenterar Numerical Technologies en teknik baserad på fasskift.
Man introducerar därmed masker med mindre element som inte resulterar i tryck, utan enbart påverkar ljuset. Det ökar den optiska upplösningen och korrigerar för undervåglängdseffekter.
Tekniken har använts i MIT Lincoln Laboratory för att producera det första 0,05 μm-mönstret, helt och hållet producerat med befintlig 248 nm optisk litografiutrustning.
Under Date-veckan tillkänna-gav Numerical Technologies också att man startar verksamhet i Europa.