Intel vill bilda ett konsortium för att utveckla en litografisk teknik, som utnyttjar så kallad extrem UV.
Med en sådan teknik skulle det bli möjligt att tillverka strukturer på mellan 0,10 μm och 0,05 μm. Men eftersom företaget räknar med kostnader på hundratals miljoner dollar för att utveckla tekniken under de kommande åren vill man dela kostnaden med ett antal samarbetspartner.
Intel har redan ett samarbete igång med statligt finansierade National Laboratories, som har utvecklat en teknik i ett spinnoff-projekt till det amerikanska Star Wars-programmet. Därmed kommer UV-konsortiet troligen att bestå endast av amerikanska företag.